学生主催GESLワークショップ(2013年10月18日講演)

GESL Workshop 18th of October, 2013

2013.10.09

GESLメーリングリスト登録者 各位
 
お世話になっております。 慶應大学理工学研究科修士一年の山下と申します。
10月18日(金)『半導体製造工程における洗浄技術と流体工学』と題しまして、GESLワークショップを開催しますので、
ご案内申し上げます。以前もご案内さしあげましたが、開催場所に変更がでましたので、再送させていただいております。
 
学生の方はもとより、ご関心ある皆様のご参加を心よりお待ちしております。 よろしくお願い致します。
 
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【日時】2013年10月18日(金) 14:45〜16:15
【場所】慶應義塾大学矢上キャンパス 厚生棟中会議室
【講演者】真田俊之氏(静岡大学機械工学科准教授)
ご来歴】
九州大学で工学博士号を取得後、九州大学、静岡大学、Caltechにて研究員を歴任。
現在は静岡大学機械工学科准教授。専門は流体工学。
 

講演題目:半導体製造工程における洗浄技術と流体工学

講演内容: 半導体デバイス製造工程においては、その3割ほどが洗浄工程と言われている。
近年の半導体デバイスの微細化、新材料の適用によって、そ の洗浄工程において流体工学の寄与が求められている。
本講演では、製造工程の概要やなぜ流体工学が必要とされるのか、また環境への対応等最新の状況につい て紹介する。
 
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慶應義塾大学大学院理工学研究科修士課程
開放環境科学専攻応用計算力学専修
安藤研M1
山下 達也
 

 

Workshop will be held on 19th of October at 18pm at Seminar Room 3
by Associate Professor Masuda in Mechanical Engineering, Shizuoka University.